等离子化学气相沉积

取自 食品百科全书

[中文]: 等离子化学气相沉积

[英文]: plasma chemical vapor deposition

[说明]: 简称PCVD。化学气相沉积（CVD）法虽是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段，但有时所需温度较高，如制备高熔点、高硬度的氮化物、碳化物或硼化物涂层时。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。